、工作温度:不同的镀膜需要不同的温度,比如镀金色TiN,温度580℃。镀银灰色TiCN温度是450℃。
2、工作时间:由于不同镀膜需要的温度不同,以致不同的镀膜需要不同的时间来控制;
3、材料本身:产地、厚度、规格、内部构成化学元素、表面初始加工的相似度;
4、真空镀膜材料:目前真空镀膜常规材料大致有:碳化钛、氮化钛、碳氮化钛等,可以满足市面常规(普通)的镀膜需要,比较的镀膜材料有氮化钛铝,氮化铬膜等,用于加工比较复杂、的颜色;
5、不同的加工环境、不同的镀钛炉、不同的镀钛技工的处理方式都会对镀钛结果产生不同程度的影响;
6、由于不锈钢表面加工工序的复杂性,每一张板材的每一道工序是不可能控制到一致的,这就直接影响到终成品的表面色泽,这也是目前该行业技术上的一个瓶颈。
溅射镀膜基本原理:充(Ar)气的真空条件下,使气进行辉光放电,这时(Ar)原子电离成离子(Ar ),离子在电场力的作用下,加速轰击以镀料制作的阴极靶材,靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。5、不同的加工环境、不同的镀钛炉、不同的镀钛技工的处理方式都会对镀钛结果产生不同程度的影响。 溅射镀膜中的入射离子,一般采用辉光放电获得,在l0-2Pa~10Pa范围,所以溅射出来的粒子在飞向基体过程中,易和真空室中的气体分子发生碰撞,使运动方向随机,沉积的膜易于均匀。与不同的气体发应形成一种薄膜涂层。今天所使用的大多数PVD方法是电弧和溅射沉积涂层。这两种过程需要在高度真空条件下进行。Ionbond 阴极电弧PVD涂层技术在20世纪70年代后期由前苏联发明,如今,绝大多数的刀模具涂层使用电弧沉积技术。
工艺温度:典型的PVD涂层加工温度在250℃— 450℃之间,但在有些情况下依据应用领域和涂层的质量,PVD涂层温度可低于70℃或高于600℃进行涂层。
磁控溅射是70年代在阴极溅射的基础上发展起来的一种新型溅射镀膜法,由于它有效地克服了阴极溅射速率低和电子使基片温度升高的致命弱点,因此获得了迅速的发展和广泛的应用.
1. 磁控溅射:
离子轰击靶材将靶面原子击出的现象称为溅射.溅射产生的原子沉积在基体(工件)表面即实现溅射镀膜.
磁控溅射的基本原理:
磁控溅射是在溅射区加了与电场方向垂直的磁场,处于正交电场区E和磁场B中的电子的运动方程,
以上信息由专业从事家具不锈钢镀钛服务电话的金常来于2024/4/14 14:15:11发布
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