离子镀基本原理:在真空条件下,采用某种等离子体电离技术,使镀料原子部分电离成离子,同时产生许多高能量的中性原子,在被镀基体上加负偏压。这样在深度负偏压的作用下,离子沉积于基体表面形成薄膜。
九、离子镀的工艺过程:蒸发料的粒子作为带正电荷的高能离子在高压阴极(即工件)的吸引下,以很高的速度注入到工件表面。
带正电荷的蒸发料离子,在阴极吸引下,随同离子一同冲向工件,当抛镀于工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时,则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。这就是离子镀的简单作用过程。PVD技术四个工艺步骤
(1)清洗工件:接通直流电源,气进行辉光放电为离子,离子轰击工件表面,工件表层粒子和脏物被轰溅抛出;
(2)镀料的气化:即通入交流电后,使镀料蒸发气化。
以上信息由专业从事表面不锈钢镀钛服务的金常来于2024/5/5 12:04:14发布
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